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半死不活的阿斯慢敏锐的看到了其中蕴藏的巨大机会，历史注定阿斯慢会和宁本坚合作。
阿斯慢如果选择浸润式技术，不仅可以获得台急电的巨大订单，也能够和台急电建立起危难中的“革命友谊”。
这对于宁本坚和阿斯慢来说，结果都不会比现在更糟了。
命运倒向了浸润式光刻技术。二零零四年，阿斯慢和台急电共同研发出第一台浸润式微影机。
优秀的性能和稳定的技术，让阿斯慢的产品全面碾压尼糠。尼糠只用了5年时间，就失去了百分之五十以上的份额，沦为一个不入流的厂商。
半导体的兴衰，没有道理可讲，而且毁灭是巨大的。时间到二零零九年，因为岛国、IBM等无视浸润式技术，让岛国的半导体厂商，以及IBM也都迅速的衰落。
尼糖因为一步错，把整个岛国半导体拖慢了3个世代。
这种情况也发生在格罗方德身上。当年格罗方德选择了FD-SOI工艺，被彻底采用FinFET工艺的台急电甩出十条大街，最终不得不放弃7nm工艺的研发。
阿斯慢在这场赌局中大获全胜，这是阿斯慢王朝的开端，但离真正封神的时候，还有一段距离。
早在一九九七年，当时干式光刻还大行其道的时候，Intel为了推动摩尔定律，在未来几十年继续有效，联合花旗国能源部，拉了AMD、摩托罗拉等搞了一个前沿组织EUV LLC，成员甚至包括当时花旗国劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利和桑迪亚三大国家级实验室。
这是当时的业内最顶级组织。阿斯慢和尼糠自然看在眼里，心心念念。
然而诡异的是，最终阿斯慢以一粒“尘埃”的角色，加入了该组织，而尼糖却因为“过于强大”，被花旗国忌惮而被剔除在外。
岛国第一次被“牺牲”，也为之后被彻底抛弃埋下了隐患。ASML第一次靠自己强大的“游说能力”受益。
多少年后回头看，花旗国人第一次被自己的“强大的智慧”扯到了蛋。
二零零三年，阿斯慢组织的几百位科学家，在发表了大量的论文，论证了EUV可行性之后，组织光荣解散。
此后，尘埃阿斯慢就像一个努力的学生，在打赢了浸润式战役之后，就投入到了EUV的研发中。
剩下的都是以后的事情了，我们就暂时不提了。
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。
在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。
在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
光刻机一直是中国半导体产业发展的软肋，由于花旗国等国对华夏国的技术封锁，我们一直没办法得到高端的光刻机，导致我们的芯片产业发展滞后。